滾鍍鉻層的用途盡管很廣，可是與其他鍍種相比，電滾鍍鉻卻是適當雜亂的，并且具有許多工藝特色。

　?。?）鉻在很多介質中都很穩定，這是因為鉻很容易鈍化所形成的，從本質上說，鉻是一個很活潑的金屬，鉻的原子結構也有一些與其他金屬不同的特色，所以在鉻酸溶液中進行滾鍍鉻時，要在很負的電位下才可以取得連續的鍍層。與其他金屬電鍍進程相比較，滾鍍鉻的陰極反響比較雜亂，它有金屬鉻的沉積，也有三價鉻的生成，但很多的還是氫的分出，并因此而形成陰極電流效率特別低。從鉻酸根離子還原到金屬鉻的電極反響很雜亂，直至目前為止，它的中間進程還一直是一個爭論不休的問題。此外，滾鍍鉻電解液中還必須添加必定的陰離子如S042+同時維持電解液中有必定量的Cr3十，滾鍍鉻進程才能完成。

　?。?）滾鍍鉻所選用的電流密度很高，比一般鍍種的電流密度高幾十倍；滾鍍鉻進程的槽電壓也很高，常常需要選用直流輸出電壓l5V的電源。

　?。?）滾鍍鉻電解液的渙散能力極低。關于形狀雜亂的制件，要想得到全部均勻一致的鉻層或者加厚鉻層都是比較困難的。出產中常選用防護陰極和輔佐陽極等辦法，來取得質量良好的鍍層。

　?。?）滾鍍鉻進程中，欲取得亮光鉻層的范圍是很狹小的。這需要在出產操作中嚴厲掌握工藝標準，正確地控制鍍液與電流密度兩者間的變化關系才可取得較寬而滿足的亮光鉻層。

　　6）目前，有許多人對鉻鹽滾鍍鉻替代鉻酸滾鍍鉻的工藝進行了研討，企圖戰勝鉻酸滾鍍鉻的許多缺陷。如選用三價鉻鹽滾鍍鉻工藝能取得類似于拋光不銹鋼色澤的鍍層。在對鉻酸污染控制越來越嚴的情況下，三價鉻滾鍍鉻不失為一種過渡性技術辦法。